研究室/装置紹介
6号館
![Thermo Nicolet NEXUS 670 フーリエ変換赤外分光光度計](/ossc/img/ourlab/1.jpg)
IR
Thermo Nicolet
NEXUS 670 フーリエ変換赤外分光光度計
試料に赤外線を照射すると、一部は試料に吸収され、残りは透過します。
赤外線のエネルギーは分子の振動・回転のエネルギー準位に対応するため、
得られたスペクトルから試料の分子構造を考察することができます。
こちらの装置では透過法を用いた測定が可能です。
![日本分光 V-770 紫外可視近赤外分光光度計](/ossc/img/ourlab/2.jpg)
UV
日本分光
V-770 紫外可視近赤外分光光度計
試料に紫外・可視・近赤外の光を照射すると、一部は試料に吸収され、一部は透過します。 これらの光のエネルギーは分子の電子遷移のエネルギー準位に対応するため、 得られたスペクトルから試料の電子状態を考察することができます。
![日本分光 MSV-370 顕微紫外可視近赤外分光光度計](/ossc/img/ourlab/3.png)
UV顕微鏡
日本分光
MSV-370 顕微紫外可視近赤外分光光度計
試料に紫外・可視・近赤外の光を照射すると、一部は試料に吸収され、一部は透過します。
これらの光のエネルギーは分子の電子遷移のエネルギー準位に対応するため、
得られたスペクトルから試料の電子状態を考察することができます。
こちらの装置では顕微画像を用いた測定が可能です。
![Bruker AVANCEII+ NMR分光計 UltraShield Plus 超伝導マグネット(9.4 T)](/ossc/img/ourlab/4.png)
NMR
Bruker
AVANCEII+ NMR分光計
UltraShield Plus 超伝導マグネット(9.4 T)
固体核磁気共鳴スペクトル測定装置です。核をプローブにして電子状態や分子・イオンの運動を評価します。
MASやPFGの測定も可能です。
1H共鳴周波数: 400 MHz
周波数範囲: 10 ~ 175 MHz, 370 ~ 420 MHz
温度範囲: 4 ~ 473 K (測定の種類による)
測定核種: 1H、2H等 (設定を変えることにより様々な核種が測定可能)
![Bruker TG-DTA 2000SA / MS 9610 示差熱天秤 / 質量分析同時測定装置](/ossc/img/ourlab/5.png)
TG
Bruker
TG-DTA 2000SA / MS 9610
示差熱天秤 / 質量分析同時測定装置
熱による試料の分解を評価します。熱重量分析と分解した成分の質量分布の同時測定が可能です。
質量分析はm/z = 410まで可能です。
熱重量分析は室温から1500 ℃まで測定可能です。
脱気装置により簡単にガス置換・乾燥が可能です。
![ネッチ 示差走査熱量計 DSC 3500 Sirius](/ossc/img/ourlab/6.png)
DSC
ネッチ
示差走査熱量計 DSC 3500 Sirius
温度可変時の試料の反応や相転移に由来する熱を観測します。
温度可変範囲: 123 K−873 K
![Solartron SI 1260 インピーダンスゲイン相分析器 SI 1296 誘電インターフェース](/ossc/img/ourlab/7.png)
交流インピーダンス装置
Solartron
SI 1260 インピーダンスゲイン相分析器
SI 1296 誘電インターフェース
高抵抗まで測定可能なLCRメーターです。
クライオスタット、インキュベーターを用いて、広範囲の温度・湿度可変測定を行うことが可能です。
測定可能温度範囲:4~475 K
![Rigaku デスクトップX線回折装置 (MiniFlex600)](/ossc/img/ourlab/8.png)
MiniFlex
Rigaku
デスクトップX線回折装置 (MiniFlex600)
高速1次元検出器 D/TeX Ultraにより従来の100倍の強度測定が可能です。
ドーム型雰囲気セパレーターによる気密下での測定が可能です。
Si特定無反射試料板による低バックグラウンド測定が可能です。
試料回転により配向性の影響を低減します。
リアルタイム角度補正システム、カウンターモノクロメーターなどにより基本性能が上昇しています。
![アドバンス理工 アークプラズマガン成膜装置APD-2P](/ossc/img/ourlab/9.png)
Plasma
アドバンス理工
アークプラズマガン成膜装置APD-2P
パルス真空アーク放電を利用した新しいナノ粒子形成装置です。
パルス真空アーク蒸着は、シンプルなプロセスで金属イオンを生成し、極薄膜やナノ粒子を形成する唯一の手法です。
膜の平坦性、微粒子の形成など、他の蒸着法では得られない効果を得ることが可能です。
![Bruker 迅速型粉末X線装置(BRUKER D8)](/ossc/img/ourlab/10.png)
PXRD
Bruker
迅速型粉末X線装置(BRUKER D8)
一次元高速検出器(PSD):従来の1時間測定が1分程度で可能です。
従来のシンチレーションカウンタ法も可能です。
温度可変型:77-700K
試料配向除去回転試料台(リートベルト解析に適します。)
平行ビーム法、集束ビーム法(キャピラリー測定可能です。)
水平試料台(液体や粘性が低い試料も測定可能です。)
TOPAS解析ソフト(リートベルト解析、構造モデリング支援ソフト)
無反射試料板(微量試料用)
ガス導入in-situ測定可能(ガス吸着状態を調べます。)
![エッペンドルフハイマック 小型超遠心機 CS 100FNX](/ossc/img/ourlab/11.png)
ultracentrifuge
エッペンドルフハイマック
小型超遠心機 CS 100FNX
最高回転速度 100000 rpm、最高遠心加速度 571000 × g と従来では遠心が難しかった数ナノメートルの粒子に対しても使用可能です。
使用中温度 0-40 ℃。
サーモモジュール冷却式採用。
![特注グローブボックス](/ossc/img/ourlab/12.png)
glovebox
特注グローブボックス
不活性ガス下での合成が可能です。
酸素濃度数ppmー数十ppmに制御可能です。
直線性1ppmジルコニア式酸素濃度計使用
![Rigaku 薄膜X線回折装置 SmartLab-9IP](/ossc/img/ourlab/13.png)
薄膜XRD
Rigaku
薄膜X線回折装置 SmartLab-9IP
薄膜試料のX線回折を通じて、結晶性や配向性の評価を行います。
測定部屋
![マイクロトラック・ベル 自動ガス/蒸気吸着量測定装置 BELSORP-18 PLUS](/ossc/img/ourlab/14.png)
BELSORP-18 PLUS
マイクロトラック・ベル
自動ガス/蒸気吸着量測定装置 BELSORP-18 PLUS
サンプル中へのガス吸着量を正確に測定する装置です。
通常の吸着測定に加えて、吸着測定部を高温に保ち壁面への吸着を抑えることで、精密な吸着量の評価を行うことができます。
![Rigaku ハイブリッドピクセル検出器搭載単結晶X線回折装置](/ossc/img/ourlab/15.png)
SCXRD(Rigaku)
Rigaku
ハイブリッドピクセル検出器搭載単結晶X線回折装置
1つの結晶内で原子配列が完全に同一な単結晶にX線を照射することで、電子雲の空間分布および物質の構造を同定します。 ダイアモンドアンビルセルを用いた高圧下での測定にも対応しています。
![Rigaku ZSX PrimusIV 蛍光X線](/ossc/img/ourlab/16.png)
XRF
Rigaku
ZSX PrimusIV
蛍光X線
サンプルにX線を照射することで発生する固有X線を測定し、 サンプルに含まれる元素やその割合を調べるための装置です。
光学部屋
![日立ハイテク SU-1510 汎用走査型分析電子顕微鏡](/ossc/img/ourlab/17.png)
SEM
日立ハイテク
SU-1510 汎用走査型分析電子顕微鏡
試料に電子ビームを照射することで放出される二次電子を検出することで、 試料の表面微細構造をナノメートル単位で観察することができます。
![日本分光 レーザーラマン分光光度計 NRS-5100](/ossc/img/ourlab/18.jpg)
Raman
日本分光
レーザーラマン分光光度計 NRS-5100
試料にレーザーを照射し、分極率の変化を起こすRaman活性な振動モードの測定・解析を行います。 波長の異なる3種類のレーザー光源があり、温度可変測定も行うことができます。
![HITACHI HT7700・QUANTAX200 透過型電子顕微鏡 エネルギー分散型X線分析](/ossc/img/ourlab/19.png)
TEM・EDX
日立ハイテク
HT7700・QUANTAX200
透過型電子顕微鏡
エネルギー分散型X線分析
TEMは試料に電子線を照射し、透過した電子を検出することによって、試料を観察する装置です。
また、EDXは試料に電子線を照射した際に、出てくる特性X線を検出することで、構成元素やその割合を調べることができます。
4号館
![Bruker 迅速型粉末X線装置(BRUKER D8)](/ossc/img/ourlab/20.png)
PXRD
Bruker
迅速型粉末X線装置(BRUKER D8)
一次元高速検出器(PSD):従来の1時間測定が1分程度で可能です。
従来のシンチレーションカウンタ法も可能です。
温度可変型:77-700K
試料配向除去回転試料台(リートベルト解析に適します。)
平行ビーム法、集束ビーム法(キャピラリー測定可能です。)
水平試料台(液体や粘性が低い試料も測定可能です。)
TOPAS解析ソフト(リートベルト解析、構造モデリング支援ソフト)
無反射試料板(微量試料用)
ガス導入in-situ測定可能(ガス吸着状態を調べます。)
![マイクロトラック・ベル 触媒反応装置 BEL REACTOR-HT-MS-2](/ossc/img/ourlab/21.png)
BEL REACTOR
マイクロトラック・ベル
触媒反応装置 BEL REACTOR-HT-MS-2
さまざまな固気触媒反応を評価するためのガス反応装置です。
腐食性ガス、高圧、多検体並列、全自動など様々な条件に対応できます。
![バイオタージ・ジャパン マイクロウェーブ合成装置Initiator+ Eight マイクロウェーブ合成装置Initiator Eight](/ossc/img/ourlab/22.png)
Microwave
バイオタージ・ジャパン
マイクロウェーブ合成装置Initiator+ Eight
マイクロウェーブ合成装置Initiator Eight
溶媒と試薬をサンプル管に密封し、マイクロ波を照射して目的温度(40-300 ℃)・圧力(0-30 bar)・照射出力(0-400 W)で合成を行います。
ロボットが装備されており、複数サンプル(最大8本)の反応を連続で実施できます。
![DFC フローリアクター](/ossc/img/ourlab/23.jpg)
flow reactor
DFC
フローリアクター
連続的に溶媒や前駆体溶液などを流すことで化学反応を進行させることが出来る装置です。 500 ℃、30 MPaまでの反応条件で反応を進めることが出来ます。
![フローリアクター](/ossc/img/ourlab/24.png)
flow reactor
フローリアクター
ポンプを用い、反応を連続的に進行させます。
ナノ粒子合成等において正確な反応制御を必要とする反応に有利です。
高圧力、高温下での合成が可能です。
大量合成もできます。
![フローリアクター](/ossc/img/ourlab/25.png)
flow reactor
フローリアクター
ポンプを用い、反応を連続的に進行させます。
ナノ粒子合成等において正確な反応制御を必要とする反応に有利です。
高圧力、高温下での合成が可能です。
大量合成もできます。
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![H CH Instruments 電気化学アナライザー ALS760E](/ossc/img/ourlab/26.jpg)
CV
H CH Instruments
電気化学アナライザー ALS760E
サンプルセルにおける化学反応を電気的に検出できるため、 CV(サイクリックボルタンメトリー)測定やOER(酸素発生反応),HER(水素発生反応)測定を通してサンプルの電気的性質や触媒性能を調べることができます。
![マイクロトラック・ベル 前処理装置 BELPREP VAC II](/ossc/img/ourlab/27.png)
Belprep
マイクロトラック・ベル
前処理装置 BELPREP VAC II
MOFなどの多孔性材料において、細孔内の溶媒分子を取り除いて比表面積・細孔分布を正確に測定するための真空加熱前処理装置です。
![マイクロトラック・ベル 自動比表面積/細孔分布測定装置 BELSORP-MINI](/ossc/img/ourlab/28.png)
Bersorp mini
マイクロトラック・ベル
自動比表面積/細孔分布測定装置 BELSORP-MINI
サンプルの比表面積や細孔分布を測定するための装置です。N2、H2、CH4などの非腐食性ガスでの測定が可能です。
![マイクロトラック・ベル 自動比表面積/細孔分布測定装置 BELSORP-MAX](/ossc/img/ourlab/29.png)
Bersorp max
マイクロトラック・ベル
自動比表面積/細孔分布測定装置 BELSORP-MAX
サンプルの比表面積や細孔分布を測定するための装置です。
BEL-MINIと同様のガス種に加えて、水蒸気などの溶媒蒸気についても比表面積や細孔分布が測定できます。
![マイクロトラック・ベル 高圧ガス吸着量測定装置 BELSORP HP](/ossc/img/ourlab/30.png)
Bersorp HP
マイクロトラック・ベル
高圧ガス吸着量測定装置 BELSORP HP
13.5 Mpaまでの高圧条件下でのサンプルのガス吸着特性を測定することができます。 前処理は50-400 ℃まで、測定は−10-70 ℃までの範囲で行うことができます。
![マイクロトラック・ベル 触媒分析装置 BELCAT-B-MSP](/ossc/img/ourlab/31.png)
BELCAT
マイクロトラック・ベル
触媒分析装置 BELCAT-B-MSP
TPD測定による酸・塩基性評価やパルス測定による金属分散度測定を行います。
BET比表面積や吸着破過曲線、各種触媒反応などさまざまな測定が可能です。
ガス混合機能の標準化により任意の比で混合ガスを調製できます。
5号館
![PerkinElmer Spectrum 100R フーリエ変換赤外分光光度計](/ossc/img/ourlab/32.png)
IR
PerkinElmer
Spectrum 100R フーリエ変換赤外分光光度計
試料に赤外線を照射すると、一部は試料に吸収され、残りは透過します。
赤外線のエネルギーは分子の振動・回転のエネルギー準位に対応するため、
得られたスペクトルから試料の分子構造を考察することができます。
こちらの装置では拡散反射法を用いた測定が可能です。
![日本分光 V-570 紫外可視近赤外分光光度計](/ossc/img/ourlab/33.png)
UV
日本分光
V-570 紫外可視近赤外分光光度計
試料に紫外・可視・近赤外の光を照射すると、一部は試料に吸収され、一部は透過します。 これらの光のエネルギーは分子の電子遷移のエネルギー準位に対応するため、 得られたスペクトルから試料の電子状態を考察することができます。
![サンユー電子 クイックコーター SC-701HMCII](/ossc/img/ourlab/34.png)
DCスパッタ
サンユー電子
クイックコーター SC-701HMCII
真空状態で膜をつける試料と膜の原料(ターゲット)間に直流電圧をかけることで、 プラズマ化した気体分子がターゲットに衝突し、はじき飛ばされたターゲット粒子が試料に付着し膜を形成します。
![サンユー電子 RFスパッタ装置 SVC-700RFII](/ossc/img/ourlab/35.png)
RFスパッタ
サンユー電子
RFスパッタ装置 SVC-700RFII
真空状態で膜をつける試料と膜の原料(ターゲット)間に交流電圧をかけることで、プラズマ化した気体分子がターゲットに衝突し、 はじき飛ばされたターゲット粒子が試料に付着し膜を形成します。 交流電圧を用いることでターゲット側がマイナスにバイアスされるため絶縁物のターゲットも使用することができます。
![島津製作所 ICPE-9000 誘導結合プラズマ発光分光分析装置](/ossc/img/ourlab/36.jpg)
ICP
島津製作所
ICPE-9000 誘導結合プラズマ発光分光分析装置
試料を酸溶液に溶かし、溶液中の元素濃度を測定することで試料中に含まれる元素量を決定します。
複数元素の同時測定も可能ですので組成分析にも適します。
![島津製作所 ESCA-3400 X線光電子分光装置](/ossc/img/ourlab/37.jpg)
XPS
島津製作所
ESCA-3400 X線光電子分光装置
試料にX線を照射し、試料表面から飛び出してきた光電子のエネルギーを測定することで酸化状態の評価を行います。
![山八物産 OMNI-LAB 2BOX 4連グローブボックス](/ossc/img/ourlab/38.jpg)
glovebox
山八物産
OMNI-LAB 2BOX 4連グローブボックス
不活性雰囲気下での合成や保管が求められる試料の扱いに適します。 アルゴンガス雰囲気下(酸素濃度1 ppm以下)に保たれています。
![島津製作所 ガスクロマトグラフ質量分析計 GCMS-QP2010 Ultra](/ossc/img/ourlab/39.jpg)
ガスクロマトグラフ質量分析計
島津製作所
ガスクロマトグラフ質量分析計
GCMS-QP2010 Ultra
サンプルを気化し、カラムを通じて処理することでサンプル内の化合物の種類と比率を決定します。
35 ℃から600 ℃の温度範囲において、電子イオン化法で質量分析を行います。通常のガスクロマトグラフ(GC)での測定に加えて、
サンプルをGCに通さずイオン源まで直接導入するDirect injection法でも測定可能です。
![Quantel フラッシュ ランプ式組み上げレーザー Q-smart 450](/ossc/img/ourlab/40.png)
レーザー
Quantel
フラッシュ ランプ式組み上げレーザー Q-smart 450
小型レーザーヘッドから450mJまでのパルスエネルギーを安定的に出射するYAGレーザー。アブレーション、パルスレーザー堆積(PLD)、などに用いられます。
1032nmの波長の光照射に加えて、第2(532 nm)および第3次(355 nm)高調波生成により3種類の波長から選択できます。
![プロトンビーム照射装置](/ossc/img/ourlab/41.png)
プロトンビーム
プロトンビーム照射装置
試料に最大5kVの加速電圧で水素イオンを打ち込みます。
in situでの伝導度測定も同時に行うことができます。